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FR-ES:精简膜厚测量仪

简要描述:FR-ES膜厚测量仪是一款輕巧便捷膜厚测量分析系统。 使用FR-ES,用户可以在370-1020nm光谱范围内进行反射率和透射率测量。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-03-23
  • 访  问  量: 170

详细介绍

FR-ES: 精簡薄膜厚度测量特性分析系统

FR-ES是一款輕巧便捷膜厚测量分析系统。 使用FR-ES,用户可以在370-1020nm光谱范围内进行反射率和透射率测量。

1、膜厚仪应用
o 大学 & 研究实验室
o 半导体
o 聚合物和光刻膠 厚度测量
o 化学测量
o 介電材料膜厚度测量
o 生物医学
o 硬涂层,阳极氧化, 金属零件加工
o 光学镀膜
o 非金属薄膜
o 还有更多…(请联系我们提出您的應用)

FR-ES機型提供出色的膜厚测量分析性能。可用于各种不同的应用,例如:薄膜厚度、折射率、颜色、透射率、反射率等等.

FR-ES機型提供三种波长范围配置: VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).

       这里有很多可选的配件:

  • 滤光片可阻挡某些光谱范围内的光

  • FR-Mic提供微米級別区域进行测量

  • 手动载物台,  100x100mm或 200x200mm

  • 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化学浓度测量的薄膜/比色皿支架

  • 积分球积分球用于漫反射和全反射反射率测量

       通过不同模块的组合设置满足任何蕞终用户的需求。

2、特征

o    单击分析(无需初始值)

o    动态测量連續測量

o    n & k、色座標测量

o    保存测量的图像和视频

o    Multiple installations for off-line analysis

o    免废软件更新

3、FR-ES规格(标准配置)


机型

VIS/NIR

NIR

NIR-N1

WL Range -nm Pixels

Min Thick -SiO2 Max Thick SiO2 Max Thick -Si

n&k -Min. Thickness Thick. Accuracy *,** Thick. Precision*,**

Thick. stability *,**

370 –1020

3648

12nm 100um


100nm 1nm / 0.2% 0.05nm

0.05nm

900 – 1700

512

50nm 250um


500nm 3nm / 0.4% 0.1nm

0.15nm

850-1050

3648

1um 500um 300um


50nm / 0.2%

Light Source Integration Time Spot size

Material Database Dimensions/Weight

Power

Halogen (internal), 10000h (MTBF)

5msec (min)

Diameter of 350um (smaller spot size as option)

> 700 different materials 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg (stage excluded)

110V/230V, 50-60Hz, 10W


4、配件


计算机

笔记本电脑/触摸屏PC,19英寸屏幕

聚焦模块

安装在反射探头上的光学模块,用于直径<100μm的光斑尺寸

膜厚/比色皿套件

标准比色皿中的薄膜或液体进行透射测量

接触探头

曲面樣品的反射率和厚度测量,具有高横向分辨率的基于显微镜的反射率和厚度测量

显微镜

用于测量涂层和表面的镜面反射和漫反射

积分球sphere

手动X-Y平台,用于测量100mm x 100mm或200mm x 200mm的区域



FR-ES 膜厚测量仪 部件.jpg

FR-ES 膜厚测量仪 部件2.jpg

5、膜厚测量仪工作原理

       白光反射光谱(WLRS)是测量垂直于样品表面的某一波段的入射光,在经多层或单层薄膜反射后,经各層薄膜介面界面干涉产生的反射光谱可确定单层或多层薄膜(透明,半透明或全反射衬底)的厚度及 N*K 光学常数。

       *规格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度测量范围即代裱光谱范围,是基于在高反射衬底折射率为 1.5 的单层膜测量厚度。

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