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Product Category详细介绍
FR-ES: 精簡薄膜厚度测量特性分析系统
FR-ES是一款輕巧便捷膜厚测量分析系统。 使用FR-ES，用户可以在370-1020nm光谱范围内进行反射率和透射率测量。 |
1、膜厚仪应用
o 大学 & 研究实验室
o 半导体
o 聚合物和光刻膠 厚度测量
o 化学测量
o 介電材料膜厚度测量
o 生物医学
o 硬涂层，阳极氧化， 金属零件加工
o 光学镀膜
o 非金属薄膜
o 还有更多…（请联系我们提出您的應用）
FR-ES機型提供出色的膜厚测量分析性能。可用于各种不同的应用，例如：薄膜厚度、折射率、颜色、透射率、反射率等等.
FR-ES機型提供三种波长范围配置: VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).
这里有很多可选的配件：
滤光片可阻挡某些光谱范围内的光
FR-Mic提供微米級別区域进行测量
手动载物台, 100x100mm或 200x200mm
薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化学浓度测量的薄膜/比色皿支架
积分球积分球用于漫反射和全反射反射率测量
通过不同模块的组合设置满足任何蕞终用户的需求。
2、特征
o 单击分析（无需初始值)
o 动态测量連續測量
o n & k、色座標测量
o 保存测量的图像和视频
o Multiple installations for off-line analysis
o 免废软件更新
3、FR-ES规格(标准配置)
机型 | VIS/NIR | NIR | NIR-N1 |
WL Range -nm Pixels Min Thick -SiO2 Max Thick SiO2 Max Thick -Si n&k -Min. Thickness Thick. Accuracy *,** Thick. Precision*,** Thick. stability *,** | 370 –1020 3648 12nm 100um 100nm 1nm / 0.2% 0.05nm 0.05nm | 900 – 1700 512 50nm 250um 500nm 3nm / 0.4% 0.1nm 0.15nm | 850-1050 3648 1um 500um 300um 50nm / 0.2% |
Light Source Integration Time Spot size Material Database Dimensions/Weight Power | Halogen (internal), 10000h (MTBF) | ||
5msec (min) Diameter of 350um (smaller spot size as option) > 700 different materials 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg (stage excluded) 110V/230V, 50-60Hz, 10W | |||
4、配件
计算机 | 笔记本电脑/触摸屏PC，19英寸屏幕 |
聚焦模块 | 安装在反射探头上的光学模块，用于直径<100μm的光斑尺寸 |
膜厚/比色皿套件 | 标准比色皿中的薄膜或液体进行透射测量 |
接触探头 | 曲面樣品的反射率和厚度测量，具有高横向分辨率的基于显微镜的反射率和厚度测量 |
显微镜 | 用于测量涂层和表面的镜面反射和漫反射 |
积分球sphere | 手动X-Y平台，用于测量100mm x 100mm或200mm x 200mm的区域 |
5、膜厚测量仪工作原理
白光反射光谱(WLRS)是测量垂直于样品表面的某一波段的入射光，在经多层或单层薄膜反射后，经各層薄膜介面界面干涉产生的反射光谱可确定单层或多层薄膜（透明，半透明或全反射衬底）的厚度及 N*K 光学常数。
*规格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度测量范围即代裱光谱范围，是基于在高反射衬底折射率为 1.5 的单层膜测量厚度。
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