光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机、电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光刻技术。如今的世界是一个信息社会，而光刻技术是制造承载信息的载体的关键技术，具有不可替代的作用。一、光刻技术的原理光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机上紫外光源发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而...

光刻机应用的光刻技术是将二维图案转印到平坦基板上的方法。可以通过以下两种基本方法之一实现图案化：直接写入图案，或通过掩模版/印章转移图案。限定的图案可以帮助限定衬底上的特征（例如蚀刻），或者可以由沉积的图案形成特征。通过计算机辅助设计（CAD）定义图案模式。多数情况下，这些特征是使用抗蚀剂形成的，可以使用光（使用光致抗蚀剂），电子束（使用电子束抗蚀剂）或通过物理冲压（不需要抗蚀剂，也叫纳米压印）来定义图案特征。图案的特征可以被转移到另一个层蚀刻，电镀或剥离。光刻机的用料：1、...

光刻机就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻机的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。光刻机技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间媒介实现图形的变换、转移和处理，然后...

光刻机，这是一个全新已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光设备。它以及晶圆对晶圆（W2W）接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的需求。业内向更小结构和更密集封装生产转型的趋势带来了众多的新挑战，如对更高精度的要求，因为这将严重影响设备的偏差律，并最终影响生产效率和增加成本。光刻机可较大提高对准精度-范围从1微米至0.1微米-从而为生产厂家在先进微电子、化和物半导体、硅基电功率、三维集成电路和纳米等几乎所有相关产业提供了解决方案。光刻机增加了对准精度，该系列包括了光刻机、对...

晶圆键合自动系统汇集多项技术突破，令半导体行业向实现3D-IC硅片通道高容量生产的目标又迈进了一步。新系统晶圆对晶圆排列精度是过去标准平台的三倍，生产能力更是比先前高出50%，此外GEMINIFBXT平台还为半导体行业应用3D-IC及硅片通道技术扫清了几大关键障碍，使半导体行业能够在未来不断提升设备密度，强化设备机能，同时又无需求助于越发昂贵复杂的光刻工艺技术。晶圆对晶圆键合自动系统是激活诸如堆叠式内存，逻辑记忆以及未来互补金属氧化物半导体图像感应器等3D装置的一个关键步骤。...