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无掩模曝光光刻平台

简要描述：LITHOSCALE 系统搭载了 EV Group 的 MLE™（无掩模曝光）技术，通过结合数字处理能力（支持实时数据传输与即时曝光）、高结构分辨率以及可扩展的吞吐量，有效突破了传统工艺的瓶颈。其无掩模方法消除了掩模相关的耗材成本；同时，配备可调谐固态激光源的曝光系统具备高冗余度和长寿命稳定性，并拥有独特的自动校准功能，可将日常维护需求降低。实时数字处理能力支持从设计文件到基板

  • 产品型号：LITHOSCALE®
  • 厂商性质：代理商
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  • 更新时间：2026-11-09
  • 访  问  量： 5
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LITHOSCALE 系统搭载了 EV Group 的 MLE™（无掩模曝光）技术，通过结合数字处理能力（支持实时数据传输与即时曝光）、高结构分辨率以及可扩展的吞吐量，有效突破了传统工艺的瓶颈。其无掩模方法消除了掩模相关的耗材成本；同时，配备可调谐固态激光源的曝光系统具备高冗余度和长寿命稳定性，并拥有独特的自动校准功能，可将日常维护需求降低。实时数字处理能力支持从设计文件到基板的即时曝光，从而避免了其他无掩模光刻系统在每次转换数字掩模布局时所需花费的数小时设置时间。
LITHOSCALE 具备高分辨率（线宽/线间距 <2 µm），能够对整个基板表面进行动态的芯片级寻址曝光，实现了敏捷的无耗材加工与极低的拥有成本（CoO）。该系统集成了全晶圆正反面全片对准功能，采用支持可见光与红外光能力的专用物镜，并配备专有卡盘设计，可兼容最大 300 mm 的晶圆尺寸。
系统采用带自动对焦功能的动态对准模式，以适应基板材料和表面的变化。对焦点位置的精细控制不仅能保持光刻胶侧壁陡峭并呈现理想的 3D 轮廓，还能有效防止边缘顶部变圆和底部扩宽（即顶部和底部畸变）现象。大工作距离结合自动自适应对焦，确保了整个曝光表面图案化的均匀性。此外，该系统还提供单颗芯片独立处理能力，配合快速的全场定位与动态对准，使其在面对各种尺寸和形状的基板时具备高可扩展性。
产品特性

  • 兼容尺寸：支持最大 300 mm（12英寸）的晶圆/基板

  • 分辨率能力：线宽/线间距 (L/S) < 2 µm

  • 核心光学：搭载 MLE 技术，配备衍射极限光学器件

  • 曝光光谱：支持 375 nm 和/或 405 nm 波长；用户可自定义选择单波长、宽带或任意波长组合

  • 光源系统：配备定期监测与自动校准的固态光源，确保长寿命稳定性与高冗余度

  • 高级对准模式：支持多点对准，以及顶面与底面的可见光（VIS）和红外（IR）对准功能

  • 焦深控制 (DoF)：< 24 µm

  • 自适应自动对焦控制 (AF)：< 100 µm

  • 高精度定位平台：采用快速全场定位与经过现场验证的对准平台，内置高科技机电组件与校准传感器，确保整个系统的稳定性

  • 高级软件功能，包括：

    • 动态芯片级标注 (Dynamic die-level annotation)

    • 高级畸变补偿 (Advanced distortion compensation)

    • 通过主机进行掩模文件传输与配方执行，支持按晶圆灵活配置

    • 版图转换功能 (Layout transformation function)

    • 支持替代格式文件：Gerber, ODB++, OASIS

    • 自动无接触楔形补偿序列 (Automated contactless wedge compensation sequence)

  • 高可扩展性：一套系统即可满足研发 (R&D) 与大批量生产 (HVM) 的需求，且不增加设备占地面积

  • 无耗材技术：工艺过程无需使用传统耗材


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