纳米压印光刻系统

简要描述：纳米压印支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。

产品型号：EVG610
厂商性质：代理商
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更新时间：2026-04-27
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该设备支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。

对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括印章的释放机制。EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。

纳米压印机技术数据：

晶圆直径	（基板尺寸）
标准光刻	碎片蕞大150毫米
柔软的UV-NIL	蕞大150毫米的碎片
解析度	≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）
支持流程	柔软的UV-NIL
曝光源	汞光源或紫外线LED光源
自动分离功能	不支持
工作印章制作	外部

纳米压印机特征：

1) 顶部和底部对准能力

2) 高精度对准台

3) 自动楔形误差补偿机制

4) 电动和配方控制的曝光间隙

5) 支持新的UV-LED技术

6) 蕞小化系统占地面积和设施要求

7) 分步流程指导

8) 远程技术支持

9) 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

10) 敏捷处理和光刻工艺之间的转换

11) 台式或带防震花岗岩台的单机版

纳米压印机主要应用：

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。

附加功能：

1) 键对准

2) 红外对中

3) 纳米压印光刻

4) 微接触印刷

纳米压印工艺结果：

图1 微镜头

图2 纳米压印结果（100纳米分辨率）

EVG610 纳米压印光刻系统作为紧凑型多功能研发级掩模对准系统，正面对准精度可达 **≤±0.5μm**，背面对准与红外对准精度≤±1μm，配合自动楔形误差补偿、电动配方控制曝光间隙，可有效保障多层图形套刻精度，大幅提升微纳结构制备良率与工艺稳定性。设备支持汞灯与新一代 UV-LED 双曝光光源，UV-LED 方案能耗更低、波长更稳定、寿命更长，可适配更多光敏压印材料，进一步拓宽工艺适用范围。

其专有的均匀接触力卡盘设计，兼容软质与硬质印章，配合可编程高低压接触力与印章释放机构，在小芯片至 150mm 基板的压印工艺中，实现全域均匀压印，有效避免图案缺陷。设备光刻与 NIL 工艺切换仅需数分钟，搭配分步式流程引导、多用户权限管理与多语言界面，兼顾新手易用性与专家级工艺调控需求，适配高校教学、科研院所研发及企业小批量试制场景EV Group。

该系统可广泛应用于MEMS、半导体器件、微流控芯片、微纳光学、生物芯片、先进封装等领域，支持紫外光刻、键对准、红外对中、微接触印刷等多种工艺，提供台式与防震花岗岩台单机版两种安装形式，以极小占地面积满足严苛实验室空间与环境要求，远程技术支持功能可快速响应售后需求，是微纳加工研发领域的通用型核心装备。

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