光刻机Track系统通过集成的生产系统和结合掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理的高度自动化功能，*了EVG光刻机产品系列。HERCULES光刻机Track系统基于模块化平台，将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁，光刻胶涂层，烘烤和光刻胶显影模块相结合。将HERCULES平台变成了“一站式服务”，在这里将经过预处理的晶圆装载到工具中，然后将结构化的经过处理的晶圆退回。