单面/双面掩模对准光刻机支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准方式。此外，该系统还提供其他功能，包括键合对准和纳米压印光刻（NIL）。EVG610提供快速处理和重新加工，以满足不断变化的用户需求，转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户，非常适合大学和研发应用。EVG单面/双面掩模对准光刻机特征：1、晶圆/基片尺寸从零碎片到200毫米/8英寸。2、台式或独立式带防振花岗岩台面。3、敏捷的处理和转换重新加工。4、分步...

Subnano3D干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。Subnano3D干涉轮廓仪产品优点：1、美国硅谷研发的核心技术和系统软件。2、关键硬件采用美国、德国、日本等。3、PI纳米移...

HerzTS主动隔振台介绍：在21世纪纳米技术(即先进的半导体代表相关的信息技术，基因疗法等生命科学相关技术，原子或分子处理如MEMS和工程技术等新材料生产)，振动、噪声、电磁领域、热、湿度、干扰等是测量环境的抑制因素。在纳米技术中，为了获得可靠的结果，使用充气被动隔振台无法隔离低频振动，此时需要主动隔离。主动式隔振系统“TS系列”将作为21世纪纳米技术的隔振技术基础。它将有助于发展目前的技术和测量、创新和发展未知的技术。HerzTS主动隔振台特点：1、在全部的6个自由度范围...