EV集团（EVG）是面向MEMS，纳米技术和半导体市场的晶圆键合机和纳米压印机的先进供应商，今天宣布，它已与先进的技术集团之一的肖特（SCHOTT）合作在特种玻璃和玻璃陶瓷领域，证明了12英寸纳米压印光刻技术（NIL）已准备好用于制造波导/光的高折射率（HRI）玻璃晶片的大量图案下一代增强/混合现实（AR/MR）耳机指南。此次合作涉及EVG公司专有的SmartNIL纳米压印工艺和SCHOTT的RealView高折射率玻璃晶片，并且将EVG的NILPhotonics内开展在公司...

在过去的几十年中，生物技术设备的小型化极大地改善了临床诊断，药物研究和分析化学。现代生物技术设备，例如用于诊断，细胞分析和药物发现的生物医学MEMS，通常是基于芯片的，并且依赖于微米级和纳米级生物物质的紧密相互作用。根据市场研究报告，越来越多的医疗保健应用正在使用bioMEMS组件。受诸如即时点测试，临床和兽医诊断等应用的推动，到2021年，已占生物MEMS市场总量的86％。NIL纳米压印光刻技术已从利基技术演变为强大的大批量制造方法，该方法可通过将印迹或生物印迹到生物相容性...

掩模对准光刻机系统，这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆（W2W）接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的需求。业内向更小结构和更密集封装生产转型的趋势带来了众多的新挑战，如对更高精度的要求，因为这将严重影响设备的偏差律，并最终影响生产效率和增加成本。掩模对准光刻机系统可较大提高对准精度-范围从1微米至0.1微米-从而为生产厂家在先进微电子、化和物半导体、硅基电功率、三维集成电路和纳米等几乎所有相关产业提供了解决方案。新一代掩模对准光刻机系...

发光二极管照明是利用半导体的电致发光发展而来的固态照明技术。自1907年第一只发光二极管问世，到20世纪90年代，人们对LED的研究进展缓慢，期间使用GaAs和InP等第二代半导体材料为光源的LED仅应用在光电探测及显示领域。直到20世纪90年代中期，日本的中村修二发明了第一只超高亮度的GaN基LED，照明领域的大门才向LED打开。GaN作为继第一代半导体材料Si，Ge和第二代半导体材料GaAs，InP等之后的第三代半导体材料，因其出色的光电性能获得了关注和研究热度。GaN是...

晶圆键合自动系统能接受4个以上的键合腔体，可配置整个的晶圆键合过程，包括阳极键合、热压键合、低温等离子体键合以及尺寸达300毫米的晶圆键合。自动晶圆黏着键合技术确保堆叠式设备实现高产。晶圆键合自动系统是一种重要的加工技术，它使用一个中间层（典型的聚合体）来粘接两个基层，被广泛地运用在先进封装中。该方法的主要优势在于实现低温加工、使材料表面平整化和提高晶圆形貌的耐久性。在CMOS图像传感器的应用方面，晶圆黏着键合技术会在图像传感器材料表面和晶圆的玻璃盖片之间设置一层保护屏障。在...