膜厚测量仪是一款高精度、高重复性的机械接触式精密测厚仪，可选配自动进样机，更加准确、高效的进行连续多点测量。测试原理：将预先处理好的薄型试样的一面置于下测量面上，与下测量面平行且中心对齐的上测量面，以一定的压力，落到薄型试样的另一面上，同测量头一体的传感器自动检测出上下测量面之间的距离，即为薄型试样的厚度。膜厚测量仪基础应用：纸——各种纸张、纸板、复合纸板等的厚度测定；薄膜、薄片——各种塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度测定；扩展应用：瓦楞纸板——瓦楞纸板的厚度测定；金属片、硅片—...

纳米压痕仪是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。它测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。该系统还可以测量聚合物，凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应（应变率灵敏度）。模块化选项可适用于各种应用：频率特定测试，定量刮擦和磨损测试，集成的基于探头的成像，高温纳米压痕测试，扩展负载容量高达10N和自定义测试。纳米压痕仪主要适用于测量纳米尺度的硬度与弹性模量，测量结果通过载荷及压入深度曲线计算得出，无需应用显微镜观测压痕面积。可被用于有机或无...

白光干涉仪以白光干涉技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。白光干涉仪可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等，提供依据ISO/ASME/EUR/GBT四大国内外标准共计300余种2D、3D参数作为评价标准。目前仪器可广...

接近式光刻机又名：曝光系统，光刻系统等，是一种用于信息科学与系统科学、能源科学技术、电子与通信技术领域的工艺试验仪器。其工作方式是通过光的作用，将掩模版上的电路图形投影到产品表面光刻胶上，然后显影出图形，最后经过蚀刻、离子植入等制程定型形成有效的电路。工作原理：接近式光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片...

光学轮廓仪是一种双LED光源的非接触式光学仪器，对样品基本上没有损害。视样品选择不同测量模式。相移干涉模式(PSI)主要用于测量光滑表面粗糙度；垂直扫描干涉模式(VSI)则可以做高度、宽度、曲率半径，粗糙度的计测等。光学轮廓仪的测试原理：白色光经分光板发射出特定波长的光。这种特定波长的光在双光束干涉物镜中，经过分光板被分成两束光，一束光照射到参照物表面，另一束光照射样品表面，这样得到的两束反射光在相机上成像。将样品表面的凹凸不平引起的光程差所获得的干涉条纹信息转换成高度信息，...