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纳米压印技术凭借成本低、分辨率高、工艺窗口灵活等优势,正在微纳加工、半导体、光学器件、MEMS、生物芯片和先进封装等领域加速落地。但很多用户在设备选型时,往往只关注“能不能压”,忽略了真正决定良率、稳定性和重复性的核心参数。本文围绕纳米压印...
在过去的40年,我们发展成为隔振台的供应商,并在此领域积累了丰富的经验。与此同时,测量技术有了很大的进步,一些灵敏的设备会受被动式隔振台中低频共振频率的干扰,只有主动式隔振台能消除此类干扰。因此,我们在被动式隔振台产品之外,补充了由瑞士TableStableLtd.开发的先进主动式隔振台。隔振台的描述:调整脚,焊接钢框架。1、薄膜空气弹簧BiAi产处于框架和需要隔振的平台之间(垂直固有频率2.3Hz)2、机械气动定位控制(精度土1/lOOmm或土1/lOmm)特点:1、固有振...
Thetametrisis膜厚测量仪用于氧化钇(Y₂O₃)涂层厚度测量。它可快速准确地绘制大型氧化铝陶瓷圆盘上的抗等离子涂层Y₂O₃层厚度。下面我们来看看用Thetametrisis膜厚测量仪测量氧化钇(Y₂O₃)涂层厚度的具体情况。Thetametrisis膜厚测量仪测量氧化钇(Y₂O₃)的案例分析:氧化钇(Y₂O₃)是一种非常有前景抗等离子涂层材料,且在集成电路中特征尺寸的持续减小应用在化学机械抛光后的高度平整工艺用作化学机械平面化(CMP)的磨料,具有犷泛的应用范围。氧...
硅片厚度测量仪是采用红外干涉技术的一款测量仪器。它能够精确测量硅片厚度和测量TTV总厚度变化,也能实时测量超薄晶圆厚度(掩膜过程中的晶圆),硅片厚度测试仪非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等厚度测量应用。硅片厚度测量仪具有突出优势,诸多材料例如Si、GaAs、InP、SiC、玻璃、石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的,非常容易测量,标准的测量空间分辨率可达50微米,更小的测量点也可以做到。目前,仪器可广泛用于MEMS、晶圆、电子器件、膜厚、激光打标雕刻等工序或器件的测量。该硅...
电容式位移传感器基于平板电容原理。电容的两极分别是传感器和与之相对的被测物体。如果有稳定交流电通过传感器,输出交流电的电压会与传感器到被测物体之间的距离成正比关系,从而可以通过测量电压的变化得到距离信息。电容位移传感器是一种非接触电容式原理的精密测量仪器,具有一般非接触式仪器所共有的无磨擦、无损磨特点外,还具有信噪比大,灵敏度高,零漂小,频响宽,非线性小,精度稳定性好,抗电磁干扰能力强和使用操作方便等优点。实际应用当中电容式传感器可以实现近乎的线性测量。但是,电容传感器要求探...
显微镜秒变光刻机!--显微镜LED曝光单元电子显微镜和光刻机,两个看上去风马牛不相及的东西,是如何结合到一起的?我们向您介绍一款无掩膜显微镜LED曝光单元UTA-3A-53M,能令显微镜秒变光刻机!该设备是一种具有高性价比的曝光装置,其DLP固定在显微镜的三目镜部分,而照相机则固定在目镜部分。可以将专用程序产生的图案投影并在显微镜下曝光在样品上。<特征>•显微镜LED曝光单元UTA系列是用于光刻的无掩模图案投影曝光设备。•使用金属显微镜和LED光源DLP投影仪,将分辨率为几μ...