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掩模对准光刻系统包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面

发表时间:2022-11-17  |  点击率:88
  掩模对准光刻系统与我们的生活息息相关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光科技束。如今的世界是一个信息社会,各种各样的信息流在世界流动。而光刻系统是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。
 

 

  光刻系统的技术原理:
  掩模对准光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。
  这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件。
  掩模对准光刻系统是一种精密的微细加工技术。常规光刻系统是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗光刻技术蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,然后把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。
 
  在广义上,掩模对准光刻系统包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面:
  1、光复印工艺:经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置,精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。
  2、刻蚀工艺:利用化学或物理方法,将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去,从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形整体一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的,因而掩模对准光刻工艺总是多次反复进行。例如,大规模集成电路要经过约10次掩模对准光刻才能完成各层图形的全部传递。