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纳米压印光刻系统用于制作3D光学纳米结构

更新时间:2023-02-17  |  点击率:680
  纳米压印光刻系统制造商SwissLitho AG今天宣布一种联合解决方案,可以生产最小到单纳米级的3D结构。该方案最初在由欧盟第七框架计划资助的“超越CMOS器件的单纳米制造(SNM)”项目中得到证明,该方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor热扫描探针光刻系统,以生产具有3D结构的主模板用于纳米压印光刻系统和EVG。
 

 

  目标应用:
  EVG和SwissLitho最初将以联合解决方案为目标,以开发衍射光学元件和其他相关光学组件,以支持光子学,数据通信,增强/虚拟现实和其他应用,并有可能扩展到生物技术,纳米流体技术和其他纳米技术应用。
 
  作为联合解决方案的一部分,SwissLitho的NanoFrazor系统将用于创建压印母版。与传统方法相比,该新技术具有较好的精度打印3D结构的*能力。然后,将使用EVG的HERCULES NIL系统,通过该公司专有的大面积纳米压印SmartNIL纳米压印技术,以高成本效益,高成本效益地创建工作模板。
 
  EV Group公司技术总监Thomas Glinsner博士指出:“ SwissLitho的NanoFrazor解决方案与EVG的SmartNIL纳米压印技术高度互补。我们可以共同为光子学和其他涉及3D结构图案的应用提供完整的NIL纳米压印解决方案,为两家公司提供了巨大的机会为了扩大我们的客户群和市场范围,我们的NILPhotonics能力中心将成为对此联合解决方案感兴趣的客户的第一联系点,我们将在此提供可行性研究,演示和中试生产。
 
  技术的仔细研究NanoFrazor背后的技术是热扫描探针光刻技术,该技术是在苏黎世的IBM Research发明的,并被SwissLitho AG收购。这种无掩膜的直接写入光刻方法涉及在图案化之前将*的热敏抗蚀剂旋涂到样品表面上。然后使用加热的超锐利头端来分解和蒸发抗蚀剂,同时检查书写的纳米结构。然后可以使用剥离,蚀刻,电镀,模制或其他方法将所得的任意抗蚀剂图案转移到几乎任何其他材料中。
 
  SwissLitho执行官Felix Holzner博士说:“我们开发了NanoFrazor产品线,以提供一种高性能,价格合理的替代产品,并扩展了昂贵的电子束光刻系统。”“该技术允许一步制造具有多个'级别'的母版。特别是,与传统的电子束或灰度光刻方法相比,具有纳米精度的3D结构可以更容易地制造,并且保真度更高。我们期待着与客户合作,将我们的技术与EVG在奥地利NILPhotonics纳米压印技术中心的成功SmartNIL纳米压印工艺相结合。”
 
  HERCULES NIL纳米压印设备将EVG在NIL纳米压印,抗蚀剂处理和大批量制造解决方案方面的广泛专业知识结合到单个集成系统中,该系统可为200毫米晶圆提供高达40 wph的吞吐量。该系统的可配置模块化平台可容纳多种压印材料和结构尺寸,从而使客户在满足其制造需求时具有更大的灵活性。此外,其制造多次使用的软邮票的能力有助于延长原版烙印模板的使用寿命。
 
  使用SwissLitho的NanoFrazor制造的3D计算机生成的全息图的纳米压印图章的形貌图像。使用EV Group的HERCULES NIL纳米压印光刻系统,此类印章可用于大量复制3D结构。