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等离子去胶和微波去胶的区别及应用分析
2024-10-10

在电子制造和材料科学领域,去胶技术是一个至关重要的环节。随着科技的进步,等离子去胶和微波去胶作为两种常见的去胶方法,各自具备特殊的优势与适用性。本文将探讨这两种技术的基本原理、优缺点及其在实际应用中的区别。一、基本原理1.等离子去胶:利用等...

  • 2023-11-11

    薄晶圆解键合系统是微电子封装领域中一项重要的关键工艺技术。该系统主要用于将薄晶圆上的芯片与其他封装材料进行可靠连接,实现微电子器件的封装和组装。本文将介绍该系统的原理、应用以及在微电子封装领域中的重要性。薄晶圆解键合系统的原理基于焊接或结合技术,通过在薄晶圆和另一个基底材料之间施加高温和压力,使两者在接触面上形成牢固的键合。常用的键合方法包括热压键合、超声波键合和激光键合等。在键合过程中,系统会监测和控制温度、压力和时间等参数,确保键合质量和可靠性。目前该系统在微电子封装领域...

  • 2023-11-03

    光学粗糙度测试仪是一种用于测量光学元件表面粗糙度的专业仪器。本文将介绍该测试仪器的基本原理和构造,以及其在工程、科研等领域中的应用。第一段:基本原理和构造光学粗糙度测试仪主要利用光的散射原理来测量光学元件表面的粗糙度。其基本原理是通过向被测物体表面照射光源,利用光学元件将散射光收集起来,经过后续分析得到粗糙度信息。该测试仪器的构造包括光源、物镜、三棱镜、探测器等部分,每个部分都有不同的作用。第二段:在工程领域中的应用该测试仪器在工程领域中被广泛应用于光学元件的制造和表面质量的...

  • 2023-10-25

    白光干涉仪是一种光学精密测量仪器,主要用于测量微小物体的形貌和薄膜的厚度等。本文将介绍它的基本原理和构造,以及其在工程、科研等领域中的应用。第一段:基本原理和构造白光干涉仪是一种利用光的干涉原理进行测量的仪器。其基本原理是将分束器分成两路,一路经过反射镜反射,与另一路相遇后发生干涉,通过探测器检测干涉条纹的形态和数量,得到被测物体表面形貌和薄膜厚度等信息。该仪器的构造包括光源、分束器、反射镜、标准板、探测器等部分,每个部分都有不同的作用。第二段:在工程领域中的应用目前,该仪器...

  • 2023-10-18

    纳米压痕仪是一种用于材料力学性能表征的重要工具。它可以通过在材料表面施加微小载荷并测量其反应来确定材料的硬度、弹性模量、塑性变形等指标,是研究材料力学性能的重要手段之一。本文将介绍该仪器的原理、应用和意义,并探讨其在材料科学和工程中的重要性。纳米压痕仪的原理是利用金刚石压头在材料表面施加预定载荷,并测量载荷下材料表面的位移量,从而确定硬度、弹性模量和塑性指数等力学参数。具体而言,当压头施加力时,会在材料表面产生类似于凹坑的形状,同时会引起材料表面位移。应用基于反向微分算法的压...

  • 2023-10-09

    胶水在工业生产和日常生活中被广泛使用,但在胶粘剂固化后,常常会留下难以清除的残留物。这些胶水残留对产品外观和性能都有负面影响,因此解决胶水残留问题成为了一个紧迫而重要的任务。在众多去胶技术中,等离子去胶技术以其高效、环保的特点日渐受到关注。等离子去胶技术是一种利用等离子体的高能量和反应性来去除胶水残留的方法。它通过将所需清洁的物体放置在等离子体发生器中,使胶水残留的表面暴露在等离子体的作用下。等离子体释放出的高能量粒子会与胶水残留发生碰撞并破坏其分子结构,从而去除胶水。该技术...

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