在微电子、纳米、半导体领域为晶片接合和光刻技术提供设备技术方案的供应商EVG近期推出了NT系列光刻机和对准测试机，这是一个全新的、已经被生产厂家验证过的新型光刻曝光机以及晶圆对晶圆(W2W)接合曝光和测试系统，可满足用户对更高光刻精度的需求。业内向更小结构和更密集封装生产转型的趋势带来了众多的新挑战，如对更高精度的要求，因为这将严重影响设备的偏差律，并最终影响生产效率和增加成本。新的EVGNT系列光刻机对准机可极大提高对准精度-范围从1微米至0.1微米-从而为生产厂家在先进微...

一、简介第四次工业革命以数年前尚不存在的技术席卷了我们的生活，其中一些在几十年前甚至无法想象。自动驾驶汽车已经在公共街道上进行测试；无人机正在调查地形，拍摄视频，派发包裹；由专业人士和业余爱好者创建的大量视频内容正在被拍摄和发布；固定和移动监视变得司空见惯；服务器的体量变得惊人的庞大，4G网络正在被5G补充或替代。所有这些趋势的共同之处在于，它们生成的大量数据必须比以往任何时候更快、更可靠地进行处理、传输和存储。上述这些新应用中，许多将需要高级逻辑器件来实现更高的功耗和处理速...

1.简介光学光刻（Opticallithography），也称为光学平版印刷术或紫外光刻，是在其他处理步骤（例如沉积，蚀刻，掺杂）之前用光刻胶对掩模和样品进行构图的方法。2.设备（接近式光刻机）2.1HMDS及涂胶1)标准旋转工艺中包括HMDS蒸汽预处理2)烤箱-批量处理多个晶圆3)HMDS也可以在手动旋转器上旋转涂布4）涂胶机上进行光刻胶的涂布2.2对准接触光刻1)光刻前的对准2)对准器——处理具有对准图形的晶圆3)EVG610等掩模对准机——尺寸从碎片到12”晶圆4)曝光...

纳米压印光刻系统制造商SwissLithoAG今天宣布一种联合解决方案，可以生产最小到单纳米级的3D结构。该方案最初在由欧盟第七框架计划资助的“超越CMOS器件的单纳米制造（SNM）”项目中得到证明，该方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor热扫描探针光刻系统，以生产具有3D结构的主模板用于纳米压印光刻系统和EVG。目标应用：EVG和SwissLitho最初将以联合解决方案为目标，以开发衍射光学元件和其他相关光学组件，以支持光子学，数据通信，增强/虚拟现实和其他...

光刻技术是将二维图案转印到平坦基板上的方法。可以通过以下两种基本方法来实现图案化：直接写入图案，或通过掩模版/印章转移图案。设定的图案可以帮助生成衬底上的特征，或者可以由沉积的图案形成特征。通过计算机辅助设计（CAD）定义图案模式。多数情况下，这些特征是使用抗蚀剂形成的，可以使用光（使用光致抗蚀剂），电子束（使用电子束抗蚀剂）或通过物理压印（不需要抗蚀剂，也叫纳米压印）来定义图案特征。图案的特征可以被转移到一个基板，再进行蚀刻，电镀或剥离。1.技术领域根据所需的特征，有几种不...