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详细解析接近式光刻机的结构及作用
2022-05-16

接近式光刻机在单室设计上可以满足研发工作,与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持大300mm的晶圆,可配置为旋涂或喷涂和显影。使用EVG先进的OmniSpray涂层技术,在3D结构晶圆上实现光刻胶或聚合物的共形层,用于互连技术。这确...

  • 2022-03-28

    椭圆偏振仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于并不与样品接触,对样品没有破坏且不需要真空。可测的材料包括:半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质。可以应用于半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等领域。椭圆偏振仪的结构:本产品常用的光学元件有下列几种:1、光源:椭圆偏振仪的理想光源是强度稳定,从紫外到近红外整个波长范围内输出近似为常数,目前大多选用Xe或Hg-Xe灯是比较合理的,但是它在UV强度较弱,而在880~...

  • 2022-03-28

    等离子去胶和等离子清洗机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理,具有广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,加热或不加热基片夹具,可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。等离子去胶机基本工艺流程:1、将圆片从片盒内取出,放置到工艺腔内,执行所选定的工艺文件完成去胶,将圆片放到冷却台上(如有需要),最后将圆片送回片盒。为了获得更高的产量,可以使用热绝缘的Teflon片盒,...

  • 2022-03-18

    折射率测量仪能测出蔗糖溶液的质量分数(锤度Brix)(0-95%,相当于折射率为1.333-1.531)。故此仪器使用范围甚广,是石油工业、油脂工业、制药工业、制漆工业、日用化学工业、制糖工业和地质勘察等有关工厂、学校及有关科研单位不可缺少的常用设备之一。折射率测量仪的准备工作:1、在开始测定前,必须先用蒸馏水或用标准试样校对读数。如用标准试样则对折射棱镜的抛光面加1—2滴溴代萘,再贴上标准试样的抛光面,当读数视场指示于标准试样上之值时,观察望远镜内明暗分界线是否...

  • 2022-03-16

    1.新闻简介岱美仪器供应商EV集团(EVG)是面向MEMS,纳米技术和半导体市场的晶圆键合机和光刻设备的领仙供应商,金天宣布已收到其制造设备和服务的权面组合产品组合的多个订单,这些产品和服务旨在满足对晶圆的新兴需求,水平光学(WLO)和3D感应。市场领仙的产品组合包括EVG®770自动UV-纳米压印光刻(UV-NIL)步进器,用于步进重复式主图章制造,用于晶圆级透镜成型和堆叠的IQAligner®UV压印系统以及EVG®40NT自动测量系统,用于对准验...

  • 2022-03-10

    EV集团(EVG,岱美仪器供应商)是面向MEMS,纳米技术和半导体市场的晶圆键合和光刻设备的领仙供应商,今天宣布已收到东京大学的EVG810LT等离子活化订单化合物半导体研究系统。EVG810LT安装在大学的Takagi&Takenaka实验室,增强了实验室的研究重点,该研究致力于使用绝缘体III-V(III-V-OI)和绝缘体锗开发新颖的MOSFET和电子光子集成电路(EPIC)(GeOI)基板。这些先进的材料衬底旨在超越常规硅半导体和硅光子学的性能,在这些衬底中,III-...

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