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单面/双面掩模对准光刻机的相关知识普及

更新时间:2024-03-12  |  点击率:1254
  单面/双面掩模对准光刻机支持各种标准光刻工艺,如真空,硬,软接触和接近式曝光模式,可选择背部对准方式。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速处理和重新加工,以满足不断变化的用户需求,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户,非常适合大学和研发应用。

 

  EVG单面/双面掩模对准光刻机特征:

  1、晶圆/基片尺寸从零碎片到200毫米/ 8英寸。

  2、台式或独立式带防振花岗岩台面。

  3、敏捷的处理和转换重新加工。

  4、分步流程指引。

  5、远程技术支持。

  6、顶部和底部对准功能。

  7、高精度对准。

  8、自动楔形补偿序列。

  9、电动的和程序控制的曝光间隙。

  10、支持先进的UV-LED技术。

  11、小化系统占地面积和设施要求。

  12、多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同语言)。