欢迎光临岱美仪器技术服务(上海)有限公司网站!
咨询热线
ARTICLE/ 技术文章
首页  >  技术文章  >  纳米压印机在日常使用中具有众多特征

纳米压印机在日常使用中具有众多特征

发布时间:2021-07-21浏览:6次
  纳米压印机具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,支持尺寸从碎片到最大150毫米。
 
  该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并可选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻。纳米压印机提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
  对于压印工艺,本产品允许基板的尺寸从小芯片尺寸到直径150毫米不等。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外,还可以包括印章的释放机制。本产品专有的卡盘设计可提供均匀的接触力,以实现高产量的压印,该卡盘设计既支持软印章也支持硬印章。
 
  特征:
  1、顶部和底部对准能力;
  2、高精度对准台;
  3、自动楔形误差补偿机制;
  4、电动和配方控制的曝光间隙;
  5、支持最新的UV-LED技术;
  6、最小化系统占地面积和设施要求;
  7、分步流程指导;
  8、远程技术支持;
  9、多用户概念;
  10、敏捷处理和光刻工艺之间的转换;
  11、台式或带防震花岗岩台的单机版。