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  • IQ Aligner NT自动掩模对准系统

    ​新型IQ Aligner NT具有高强度和高均匀度的曝光光学器件,新的晶圆处理硬件,可实现全局多点对准的200mm和300mm晶圆全覆盖范围以及优化的工具软件,从而使生产率提高了2倍与EVG上一代IQ Aligner相比,对准精度提高了2倍。该系统超越了晶圆凸块和其他后端光刻应用的蕞苛刻要求,同时与竞争系统相比,拥有成本降低了30%。

    更新时间:2024-03-19
    型号:IQ Aligner NT
    厂商性质:代理商
    浏览量:575
  • EVG6200 NT掩模对准光刻系统

    EVG6200 NT掩模对准光刻系统 特色:EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

    更新时间:2024-03-19
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:2332
  • IQ Aligner 自动掩模对准系统

    IQ Aligner 自动掩模对准系统 用于自动非接触近距离掩模对准光刻,进行了处理和优化,用于晶圆片的尺寸高达200毫米。

    更新时间:2024-03-19
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:1630
  • EVG610EVG单面/双面掩模对准光刻机

    EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610(单面/双面掩模对准光刻机 微流控 纳米压印)支持各种标准光刻工艺,如真空,硬,软接触和接近式曝光模式,可选择背部对准方式。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速处理和重新加工,以满足不断变化的用户需求,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户,非常适合大学和研发应用。

    更新时间:2024-03-19
    型号:EVG610
    厂商性质:代理商
    浏览量:6553
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