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  • EVG610EVG单面/双面掩模对准光刻机

    EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610(单面/双面掩模对准光刻机 微流控 纳米压印)支持各种标准光刻工艺,如真空,硬,软接触和接近式曝光模式,可选择背部对准方式。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速处理和重新加工,以满足不断变化的用户需求,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户,非常适合大学和研发应用。

    更新时间:2020-10-28
    型号:EVG610
    厂商性质:代理商
    浏览量:1227
  • EVG6200 NT掩模对准光刻系统

    EVG6200 NT掩模对准光刻系统 特色:EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

    更新时间:2020-10-28
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:149
  • IQ Aligner 自动掩模对准系统

    IQ Aligner 自动掩模对准系统 用于自动非接触近距离掩模对准光刻,进行了处理和优化,用于晶圆片的尺寸高达200毫米。

    更新时间:2020-10-28
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:120
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