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分享!光刻机的技术应用领域和典型过程

发表时间:2023-01-10  |  点击率:44
  现在光刻机与我们的生活息息相关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光刻机。如今的世界是一个信息社会,各种各样的信息流在世界流动。而光刻机的技术是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。
 
  光刻机的技术应用领域:
  平版印刷术用于在用户不希望影响其整个样品的工艺步骤(主要是沉积或蚀刻)之前对样品进行构图。在蚀刻之前,使用光刻技术来形成抗蚀剂保护层,该保护层仅将材料保留在存在抗蚀剂的位置(负图案)。在使用沉积光刻进行剥离之前,在沉积之后剥离抗蚀剂,仅留下没有抗蚀剂的材料(正图案)。
 

 

  典型过程:
  1、从干净的基材和掩模版开始。如果掩模或基板上有颗粒,则可能导致抗蚀剂覆盖率不均匀,从而导致许多器件出现错误;
  2、脱水烘烤样品。这样可以轻除表面上的水分,并改善与表面的附着力。通常,当表面仍然有水分时,抗蚀剂会在烘烤过程中起泡;
  3、旋转抗蚀剂(通常在助粘剂之后)。这需要均匀地涂覆表面,否则曝光将不一致;
  4、轻轻烘烤抗蚀剂,这会将抗蚀剂中的溶剂轻除掉。过多的软烘烤会降低抗蚀剂的灵敏度;
  5、暴露抗蚀剂(请参阅前面的部分);
  6、在某些抗蚀剂中,需要后曝光烘烤(PEB)。这将使酸在抗蚀剂中分布,从而破坏键。这样可以使抗蚀剂的侧壁轮廓更直;
  7、显影抗蚀剂。显影剂的类型取决于抗蚀剂和基底。与手动方法相比,自动显影系统将具有更好的重现性;
  8、有些抗蚀剂需要硬烤,而另一些则不需要。确保您遵循所使用抗蚀剂的推荐做法。