白光干涉仪作为一种高精度光学测量设备，在纳米级平坦度检测与缺陷识别领域发挥着关键作用。其基于低相干干涉原理，通过宽带光源的干涉条纹分析，可实现亚纳米级垂直分辨率和微米级横向分辨率的表面形貌测量，尤其适用于半导体、光学元件及精密机械等领域的表面质量控制。
在纳米级平坦度检测中，白光干涉仪通过垂直扫描干涉（VSI）模式，可精确获取样品表面的三维形貌数据。例如，在半导体晶圆制造中，晶圆表面的平坦度直接影响芯片的电性能与良品率。白光干涉仪能够快速扫描晶圆表面，生成高分辨率的形貌图，并通过数据分析软件计算全局平坦度（GBIR）、局部平坦度（SFQR）等关键参数，为工艺优化提供量化依据。此外，其非接触式测量方式避免了物理损伤，尤其适用于软质或易污染材料。
在缺陷识别方面，白光干涉仪通过横向扫描干涉（LSI）模式，可捕捉微米级甚至纳米级的表面缺陷。例如，在光学镀膜元件中，膜层中的颗粒污染、划痕或针孔会导致光散射或性能下降。白光干涉仪能够清晰呈现缺陷的深度、宽度及三维形貌，结合图像处理算法，可自动分类缺陷类型并评估其严重程度。这种能力在光学系统（如激光器、显微镜）的制造中尤为重要，可显著降低次品率。
随着纳米技术的不断发展，白光干涉仪的应用场景将进一步拓展。例如，在柔性电子器件中，其可测量薄膜在弯曲状态下的表面形貌变化；在生物医学领域，可用于分析细胞培养基底的拓扑结构对细胞行为的影响。未来，结合人工智能与自动化技术，白光干涉仪有望实现更高效的在线检测与实时反馈，推动精密制造向更高精度与智能化方向发展。
