纳米压印光刻系统制造商SwissLithoAG今天宣布一种联合解决方案，可以生产最小到单纳米级的3D结构。该方案最初在由欧盟第七框架计划资助的“超越CMOS器件的单纳米制造（SNM）”项目中得到证明，该方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor热扫描探针光刻系统，以生产具有3D结构的主模板用于纳米压印光刻系统和EVG。目标应用：EVG和SwissLitho最初将以联合解决方案为目标，以开发衍射光学元件和其他相关光学组件，以支持光子学，数据通...

光刻技术是将二维图案转印到平坦基板上的方法。可以通过以下两种基本方法来实现图案化：直接写入图案，或通过掩模版/印章转移图案。设定的图案可以帮助生成衬底上的特征，或者可以由沉积的图案形成特征。通过计算机辅助设计（CAD）定义图案模式。多数情况下，这些特征是使用抗蚀剂形成的，可以使用光（使用光致抗蚀剂），电子束（使用电子束抗蚀剂）或通过物理压印（不需要抗蚀剂，也叫纳米压印）来定义图案特征。图案的特征可以被转移到一个基板，再进行蚀刻，电镀或剥离。1.技术领域根据所需的特征，有几种不...

Microsense电容式位移传感器提供高稳定性和线性方案、高分辨率、高带宽测量方案，用于测量硬盘驱动马达，气动轴承转子，X-Y样品台准确度，光盘，汽车零部件和机床等测量。它的用途广泛：金属薄片厚度测量，振动测量，工作台垂直度和平坦度测量，精密马达转轴偏振测量，精密仪器工作平台定位，设备自动聚焦测量（微影设备、原子力显微镜、光罩探测、图像确认、LCD生产设备…）它的安装难度：它是易于安装的Microsense电容式位移传感器。MicroSense的电容式位移传感...

随着传统的2D硅缩放达到其成本极限，半导体行业正在转向异构集成-将具有不同特征尺寸和材料的多个不同组件或管芯的制造，组装和封装到单个设备或封装中，以提高性能，这就是混合键合技术。EVG是面向MEMS、纳米技术和半导体市场的晶圆键合和光刻设备的供应商，近期推出了EVG®320D2W裸片制备和活化系统，这是业内弟一个用于混合硅酸盐管芯对晶片键合活化和清洗系统。晶圆键合系统集成了D2W键合所需的所有关键预处理模块，包括清洁，等离子体活化，芯片对准验证和其他必要的计量工具，并...

光学膜厚仪的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及nk，采用r-θ极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度，可随意选择一种或极坐标形、或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。49点的分布图测量只需耗时约45秒。用激光粒度分布仪测试胶体的粒度分布时应配合其它检测手段验证测试结果的准确性，同时应使用去离子水作为分散介质，防止自来水中的电解质造成颗粒团聚影响...