FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自动薄膜厚度测绘系统，光学膜厚仪用于全自动图案化晶圆上的单层和多层涂层厚度测量。电动X-Y载物台提供适用尺寸200mmx200mm的行程，可在200-1700nm光谱范围内提供各种光学配置。FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200光学膜厚仪模块化厚度测绘系统平台，集成了先进的光学、电子和机械模块，用于表征图案化薄膜光学参数。典型案例包括（但不限于）微图案表面、粗糙表面等。该机型光学模块功能强大，可测量的光...

掩模对准光刻机是将二维图案转印到平坦基板上的方法。可以通过以下两种基本方法之一实现图案化：直接写入图案，或通过掩模版/印章转移图案。限定的图案可以帮助限定衬底上的特征（例如蚀刻），或者可以由沉积的图案形成特征。通过计算机辅助设计（CAD）定义图案模式。多数情况下，这些特征是使用抗蚀剂形成的，可以使用光（使用光致抗蚀剂），电子束（使用电子束抗蚀剂）或通过物理冲压（不需要抗蚀剂，也叫纳米压印）来定义图案特征。图案的特征可以被转移到另一个层蚀刻，电镀或剥离。掩模对准光刻机的技术领域...

表面粗糙度怎么检测,表面粗糙度的检测,我们常用的有以下几中方法。1.显微镜比较法,Ra0.32；将被测表面与表面粗糙度比较样块靠近在一起，用比较显微镜观察两者被放大的表面，以样块工作面上的粗糙度为标准，观察比较被测表面是否达到相应样块的表面粗糙度；从而判定被测表面粗糙度是否符合规定。此方法不能测出粗糙度参数值。2.光切显微镜测量法，Rz：0.8～100；光切显微镜(双管显微镜)是利用光切原理测量表面粗糙度的方法。从目镜观察表面粗糙度轮廓图像，用测微装置测量Rz值和Ry值。也可...

掩模对准光刻系统与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光科技束。如今的世界是一个信息社会，各种各样的信息流在世界流动。而光刻系统是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。光刻系统的技术原理：掩模对准光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用，类似照相机...

在过去的40年，我们发展成为隔振台的供应商，并在此领域积累了丰富的经验。与此同时，测量技术有了很大的进步，一些灵敏的设备会受被动式隔振台中低频共振频率的干扰，只有主动式隔振台能消除此类干扰。因此，我们在被动式隔振台产品之外，补充了由瑞士TableStableLtd.开发的先进主动式隔振台。隔振台的描述：调整脚，焊接钢框架。1、薄膜空气弹簧BiAi产处于框架和需要隔振的平台之间（垂直固有频率2.3Hz）2、机械气动定位控制（精度土1/lOOmm或土1/lOmm）特点：1、固有振...