当前位置:首页 > 技术文章
在半导体制造、光学薄膜研发及精密涂层检测等领域,薄膜厚度与光学参数的精准测量是保障产品质量与性能的关键环节。Thetametrisis薄膜厚度测量仪(如FR-Scanner系列)凭借其高度集成的光学模块设计,成为这一领域的标准设备——其光学...
光学膜厚仪作为现代材料科学中至关重要的精密测量工具,其核心原理基于光的干涉现象与薄膜光学特性。当一束光波照射至透明或半透明薄膜表面时,部分光在膜层上表面反射,另一部分穿透膜层后在下表面反射,两束反射光因光程差产生干涉现象。通过分析干涉图样的光强分布与相位变化,可精确推导出薄膜的物理厚度与光学参数。一、干涉原理的数学表达干涉现象的本质是光波的相位叠加。当两束反射光的光程差为波长的整数倍时,发生建设性干涉,光强达到极大值;当光程差为半波长的奇数倍时,发生破坏性干涉,光强降至最小值...
在柔性电子、半导体制造及新能源材料研发领域,薄膜电阻的精确测量是评估材料性能的核心指标。Delcom20J3STAGE薄膜电阻测量仪凭借其非接触式涡流技术、高精度传感器及智能化软件系统,成为行业实验室与产线的关键设备。以下从操作流程、核心功能及行业应用三个维度,解析其高效使用方法。一、设备安装与基础配置1.机械结构组装仪器台采用13毫米聚甲醛树脂与铝支架制成,尺寸为55×47×8cm,重量10kg。安装时需将传感器固定于仪器台下方平台,通过两个螺钉完成快速定位。台面提供46×...
光学显微镜适配器通过多通道光路设计、智能滤光片切换系统及环境光控制技术,有效破解荧光与明场成像冲突,实现两种观察方式的无缝切换与高质量成像,具体分析如下:多通道光路设计:独立传输与干扰隔离适配器采用分光棱镜与可调滤光片模块,构建独立的光路传输通道。荧光激发光(如488nm激光)与明场照明光通过不同路径传输,避免光路串扰。例如,在活细胞动态观测中,适配器可同时获取细胞形态(明场)与分子标记(荧光)信息,且两种信号互不干扰,成像清晰度显著提升。智能滤光片切换系统:快速响应与精准匹...
在半导体制造中,晶圆表面缺陷与焊点质量检测是保障芯片良率与可靠性的核心环节。前者聚焦于纳米级表面完整性,后者则关乎封装结构的电学与机械稳定性。两者通过光学、声学及人工智能技术的深度融合,构建起从晶圆制造到封装测试的全流程质量防线。一、晶圆表面缺陷检测:纳米级精度的“显微猎手”晶圆表面缺陷检测需覆盖颗粒污染、划痕、晶格畸变及薄膜厚度异常等微米/纳米级缺陷。主流技术包括:1.明暗场光学检测:通过激光束扫描晶圆表面,利用反射光强差异识别缺陷。例如,KLA-Tencor的2930系列...
主动减震台作为高精度仪器的核心支撑系统,通过集成传感器、控制器与执行器,构建实时动态补偿网络,可有效抑制地面振动对设备的影响(振动衰减率>90%,频率响应范围0.5-200Hz)。其核心技术突破传统被动减震的单一阻尼机制,通过智能算法实现毫秒级响应,为半导体制造、光学检测等领域提供纳米级稳定性保障。一、核心架构:感知-决策-执行的三级联动系统1.高精度振动感知层:采用压电陶瓷加速度计或激光干涉仪,以10kHz采样率实时监测台面三轴(X/Y/Z)振动位移、速度与加速度,精度可达...