01引言数据中心、电信网络、传感器和用于人工智能高级计算中的新兴应用，对于低功耗和低延迟的高速数据传输的需求呈现出指数级增长。我们比以往任何时候都更加依赖这些应用来确保这个世界更安全、更高效。在所有这些市场中，硅光子学(SiPh)在实现超高带宽性能方面发挥着关键作用。因此，开发能够经济高效地扩大硅光子产品生产的解决方案比以往任何时候都更加重要。虽然通过使用标准半导体大规模生产工艺和现有基础设施，SiPh的晶圆制造能力已经成熟，但SiPh的封装解决方案仍然是大规模商业化的关键瓶...

相较上一代平台，全新自动掩模对准系统（IQAlignerNT）产出率和对准精度提升两倍，为EVG光刻解决方案带来了全新应用微机电系统（MEMS）、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备LINGXIAN供应商EVG集团（EVG）近日宣布推出IQAlignerNT，旨在针对大容量XIANJIN封装应用推出的全新自动掩模对准系统。IQAlignerNT光刻机配备了高强度和高均匀度曝光镜头、全新晶圆处理硬件、支持全局多点对准的全200毫米和全300毫米晶圆覆盖、以及优化的工具软件。...

1.介绍对电子设备性能和灵活性的新要求正在使制造基础架构从传统的基于掩模的光刻技术转变为用于高级封装和异构集成的数字光刻技术。片上系统正在从单片解决方案转向封装，小芯片和功能块中的模块化系统。因此，对于可扩展和通用后端光刻的需求不断增长，以实现封装和系统级的互连。为了满足这一新的行业愿景，需要能够通过高级封装快速集成新颖功能元素的大规模生产新工具。大批量制造（HVM）行业必须超越保守的芯片图案设计，并进入数字光刻技术的新时代。EVGroup开发了MLE™（无掩模曝...

一、优势简介：MicroSense的高精度电容式位移传在感器，除具有一般非接触式仪器的共性外，还具有信噪比高、灵敏度高、零漂小、频响宽、非线性小、精度稳定性好、抗电磁干扰能力强、使用方便等优点，在国内研究所、高等院校、企业得到广泛应用，成为科研、教学和生产中一种非常重要的测试仪器。二、特点：1、可实现近距离、高精度、非接触式位置测量2、分辨率可达亚纳米级直至皮纳米级，在所有商用电容传感器品牌中，噪音ZUI低3、提供多种型号的探头，以满足高稳定性、线性或高测量带宽等不同需求4、...

３结果与讨论３.１显影时间影响经过无掩模光刻机曝光后，目标图案已转移至ＩＴＯ玻璃上。将ＩＴＯ玻璃放置于加热板上进行加热，烘除光刻胶中的残留溶剂、水分，使光刻胶与ＩＴＯ玻璃结合更加紧密，此时，经过曝光的光刻胶与未曝光的光刻胶在显影液中会存在明显的溶解速度差。将自然冷却后的ＩＴＯ玻璃浸没于ＳＵ－８光刻胶专用显影液中，由于本实验中采用的光刻胶为负胶，因此显影目的是为了除去曝光区域以外的光刻胶。该方法的核心问题是控制显影时间。图２为经过不同显影时间后，在Ｔｉ－Ｅ显微镜下观察到的光刻胶...