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薄膜厚度测量仪光学模块集成化的精密测量核心
2025-11-14

在半导体制造、光学薄膜研发及精密涂层检测等领域,薄膜厚度与光学参数的精准测量是保障产品质量与性能的关键环节。Thetametrisis薄膜厚度测量仪(如FR-Scanner系列)凭借其高度集成的光学模块设计,成为这一领域的标准设备——其光学...

  • 2025-05-09

    位移传感器作为工业自动化与精密制造的核心组件,其非接触式高分辨率近距离测量技术正推动制造业向智能化、高精度方向演进。基于电容、激光、电磁等原理的非接触式传感器,通过消除机械磨损与环境干扰,实现了亚微米级位移测量,广泛应用于半导体加工、航空航天与医疗设备领域。一、技术原理与核心优势1.电容式位移传感器:纳米级分辨率的范例采用平行板电容器结构,当被测物体(金属或导电体)靠近时,电容值随距离线性变化。例如MicroSense8800系列传感器,通过优化电极几何结构与信号处理算法,在...

  • 2025-05-07

    硅片作为半导体、光伏及微电子等领域的核心材料,其厚度精度直接影响产品质量与性能。不同应用场景对厚度测量提出多样化需求,催生出一系列精准高效的测量技术。本文结合技术原理与实际应用场景,系统阐述多种硅片厚度测量方法。一、接触式测量:机械与压电技术的结合1.机械测微计法通过螺旋测微器或千分尺对硅片进行接触式测量,操作简单直观。然而受限于测量点数量,仅适用于抽检,且可能因压力导致表面微损伤,适用于低精度要求的场合。2.电感测微仪利用电感线圈对距离变化的敏感性,通过接触式测头检测厚度变...

  • 2025-04-29

    在半导体制造、光伏产业等精密制造领域,硅片厚度是影响芯片性能、太阳能电池效率的核心参数之一。硅片厚度测量仪作为一种高精度检测工具,其正确的操作方法直接关系到测量数据的可靠性。本文从基础到进阶,系统解析测量仪的操作要点,助力工程师快速掌握这一关键技术。一、测量前的准备工作1.清洁与环境控制①使用无尘布和酒精擦拭硅片表面,避免指纹、油渍等污染影响测量精度。②确保实验室温度稳定在(23±2)℃、湿度≤60%,防止热胀冷缩导致误差。2.设备预热与校准①开机后等待10-1...

  • 2025-04-27

    3D划痕仪作为材料表面力学性能分析的核心工具,其核心功能在于通过精密力学加载与三维形貌成像的协同作用,实现涂层附着力、表面硬度等参数的量化评估。本文从机械结构、信号采集与数据处理三方面解析其工作原理。一、机械结构:多轴联动与模块化设计的协同3D划痕仪采用高精度XYZ三轴运动平台,其中Z轴配备闭环控制加载系统,可实现恒定力、递增力或台阶增力加载模式。划痕头通过压电陶瓷驱动器提供亚纳米级位移精度,加载力范围覆盖1000mN至200N,满足从纳米涂层到宏观材料的测试需求。设备支持快...

  • 2025-04-24

    在现代半导体制造和微纳加工领域,光刻机是实现精密图形转移的关键设备。其中,接触式光刻机以其特殊的工艺和高精度,在芯片制造等行业发挥着重要作用。那么,它的精度究竟有多高呢?接触式光刻机的精度通常以线宽和分辨率来衡量。线宽指的是能够清晰制造出的最小线条宽度,而分辨率则是光刻机能够分辨和复制出的最小特征尺寸。一般来说,高级的设备能够达到亚微米甚至纳米级别的精度。在早期,随着技术的发展,设备的线宽精度从几十微米逐步提升到了微米级别。这一进步使得芯片制造能够在更小的尺寸上集成更多的电路...

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