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纳米压印机是一种科研设备,利用纳米压印技术将预制的模具图案转移到工件上,以制作出纳米级别的微结构。它是纳米制造技术的一种,被广泛应用于纳米电子、纳米光子学、纳米生物技术、微电机械系统等领域。
1. 简介
我们的EVG770分步重复纳米压印光刻机是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面积均匀地复制模板。结合金刚石车削或直接写入方法,分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
2. 纳米压印设备主要应用
主要使用连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作(例如:微镜头制作)。
3. 特色
EVG770的主要功能包括精确的对准功能,全缅的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。
4. 纳米压印机参数特征
1)高效的晶圆级光学微透镜主制造,直至SmartNIL的纳米结构®
2)简单实施不同类型的主机
3)可变抗蚀剂分配模式
4)分配,压印和脱模过程中的实时图像
5)用于压印和脱模的原位力控制
6)可选的光学楔形误差补偿
7)可选的自动盒带间处理
5. EVG770技术数据
1)晶圆直径(基板尺寸):100至300毫米
2)解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)
3)支持的工艺:软UV-NIL纳米压印
4)曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm²
5)对准:顶面显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm
6)弟一个印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
7)有效印记区域:长达50 x 50毫米
8)自动分离:支持
9)预处理功能:涂层:液滴分配(可选)
6. 纳米压印工艺结果
图1 微镜头
图2 纳米压印结果(100纳米分辨率)
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