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多功能紫外纳米压印光刻系统

简要描述:多功能EVG7300 UV纳米压印光刻系统可以支持多种相关的UV工艺:SmartNIL,晶圆级光学(WLO)和堆叠-三种功能合并在一个灵活的工具中

  • 产品型号:EVG7300
  • 厂商性质:代理商
  • 产品资料:
  • 更新时间:2024-03-19
  • 访  问  量: 1150

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详细介绍

它是一个基于模块化和改进的SmartNIL模块的独立系统,可以根据处理和自动化水平进行配置。EVG7300支持从150毫米到300毫米的晶圆尺寸,具有低至300纳米的高精度对准,先进的过程控制和高吞吐量,可以满足各种自由形状和高精度纳米和微光学元件和器件的先进研发和大批量制造(HVM)需求。为了在HVM环境中集成预处理和后处理流的必要性,该模块可以集成到HERCULES NIL系统中


这种多功能系统旨在服务于广泛的新兴应用,包括微和纳米压印以及功能层的紫外线堆叠。因此,该设备可以增强晶圆级光学(WLO),纳米光子学,超表面和生物医学芯片的工艺性能。这与行业对新型光学传感器和光电子器件的需求密切相关,例如自动驾驶,汽车和装饰照明中的微透镜阵列和投影仪,生物识别认证的衍射光学器件以及复杂元透镜的新兴趋势。利用这项技术的第一个应用已经存在于先进的生物医学设备和增强现实波导领域,其中纳米印迹技术可以实现复杂设计的高质量制造。


特点

· 灵活性:UV- nil系统在一个工具中实现三个UV过程:SmartNIL, WLO和堆叠

     · 精确控制多步工艺,包括对准,接触和紫外线固化

     · 用于SmartNIL和WLO的低力自动冲压分离

· 可扩展性:加工高达300mm基板的晶圆

· 模块化:独立模块,以及集成到HERCULES NIL

     · 基材搬运:从手动装载到全自动操作

     · 可选的自动邮票加载SmartNIL允许连续模式操作

· 高级对齐功能

     · 实时校准<±300nm(取决于工艺)

· UV LED灯最高功率500mW/cm²

     · > 90%均匀度

     · 可选:双波长工作:365nm和405nm

     · 不同的曝光模式

· 可选特性

     · 光楔误差补偿(WEC)

     · 温度控制

· 行业先进的工艺性能

     · 分辨率低至单纳米范围

     · 非常精确的残余层控制


技术数据

晶圆直径(衬底尺寸):最大300毫米

分辨率:≤10纳米(视工艺及材料而定,主料由客户提供)


支持的进程:Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®

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