欢迎来到岱美仪器技术服务(上海)有限公司网站!
岱美仪器技术服务(上海)有限公司
咨询热线

4008529632

当前位置:首页  >  产品中心  >    >  CMP 晶圆减薄抛光  >  7AF-HMG SiC研磨机

7AF-HMG SiC研磨机

简要描述:7AF-HMG研磨机具有实时过程监控及双探头监测功能,研磨SiC会产生热量,从而导致研磨机热膨胀,使用单个探针,研磨的前几块晶圆的厚度读数将不准确,通常会导致研磨不足,使用双探针可防止研磨不足,一个探针参考晶圆,另一个探针则参考工作卡盘,这消除了优于热膨胀引起的误差

  • 产品型号:
  • 厂商性质:代理商
  • 产品资料:
  • 更新时间:2024-03-19
  • 访  问  量: 2878

产品分类

Product Category

相关文章

Related Articles

详细介绍

7AF-HMG研磨机特点:

双探头检测:

研磨SiC会产生热量,从而导致研磨机热膨胀,使用单个探针,研磨的前几块晶圆的厚度读数将不准确,通常会导致研磨不足,使用双探针可防止研磨不足,一个探针参考晶圆,另一个探针则参考工作卡盘,这消除了优于热膨胀引起的误差


实时过程监控:


应用:

基质研磨

·在晶圆制造过程的早期发生,

·用线锯或K-cut切割

·浆料去除通常在10微米

·后续晶圆制造操作为表面

·用6EZ抛光


背面研磨

·在晶圆的一侧制造器件后发生

·起始面通常具有较低的TTV

·浆料去除通常在100微米

其他应用程序

·线锯基材的背面减薄和整体减薄









产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7