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等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统

简要描述:Vision 310等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统--PTI 790+ 系列的延续,延续了服务于多样化市场的成功经验

  • 产品型号:Vision 310
  • 厂商性质:代理商
  • 产品资料:
  • 更新时间:2025-07-31
  • 访  问  量: 28

详细介绍

1.灵活的沉积能力

·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统基于硅的沉积工艺-氧化物、氮化物、氧氮化物、非晶硅(a-Si)、碳化硅(SiC

·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统研究与开发

·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统原型制作

·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统小批量生产-光子学、固态照明MEMS和纳米技术

·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统应用领域:层间绝缘层、钝化层、封装层、掩模层、抗反射层


2.性能价值

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统1.大尺寸手动装载载物台(406mm)

2.出色的洁净度

3.高均匀性

4.高吞吐量 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统

5.可靠的软件

6.小巧的占地面积

7.具有成本效益

8.易于维护

9.采用行业头部组件


3.经过验证的解决方案

·广泛的“交钥匙"工艺

·通过优化的喷淋头实现高薄膜均匀性

·高标准的利用率和可靠性--采用一级(Tier Ⅰ)OEM组件、快速抽真空、可选原位终点检测,避免过度清洗

·享有认可的服务与支持

·通过低频或氦气稀释实现应力控制


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