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在材料科学、微电子制造以及精密机械加工等多个领域,对表面微结构的研究和分析至关重要。其中,凹坑的平均深度是一个关键参数,对于评估材料性能、产品质量等具有重要意义。而三维形貌仪作为一种先进的测量分析仪器,在计算凹坑平均深度方面发挥着不可替代的...
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自动薄膜厚度测绘系统,光学膜厚仪用于全自动图案化晶圆上的单层和多层涂层厚度测量。电动X-Y载物台提供适用尺寸200mmx200mm的行程,可在200-1700nm光谱范围内提供各种光学配置。FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200光学膜厚仪模块化厚度测绘系统平台,集成了先进的光学、电子和机械模块,用于表征图案化薄膜光学参数。典型案例包括(但不限于)微图案表面、粗糙表面等。该机型光学模块功能强大,可测量的光...
掩模对准光刻机是将二维图案转印到平坦基板上的方法。可以通过以下两种基本方法之一实现图案化:直接写入图案,或通过掩模版/印章转移图案。限定的图案可以帮助限定衬底上的特征(例如蚀刻),或者可以由沉积的图案形成特征。通过计算机辅助设计(CAD)定义图案模式。多数情况下,这些特征是使用抗蚀剂形成的,可以使用光(使用光致抗蚀剂),电子束(使用电子束抗蚀剂)或通过物理冲压(不需要抗蚀剂,也叫纳米压印)来定义图案特征。图案的特征可以被转移到另一个层蚀刻,电镀或剥离。掩模对准光刻机的技术领域...
表面粗糙度怎么检测,表面粗糙度的检测,我们常用的有以下几中方法。1.显微镜比较法,Ra0.32;将被测表面与表面粗糙度比较样块靠近在一起,用比较显微镜观察两者被放大的表面,以样块工作面上的粗糙度为标准,观察比较被测表面是否达到相应样块的表面粗糙度;从而判定被测表面粗糙度是否符合规定。此方法不能测出粗糙度参数值。2.光切显微镜测量法,Rz:0.8~100;光切显微镜(双管显微镜)是利用光切原理测量表面粗糙度的方法。从目镜观察表面粗糙度轮廓图像,用测微装置测量Rz值和Ry值。也可...
掩模对准光刻系统与我们的生活息息相关,我们用的手机,电脑等各种各样的电子产品,里面的芯片制作离不开光科技束。如今的世界是一个信息社会,各种各样的信息流在世界流动。而光刻系统是保证制造承载信息的载体。在社会上拥有不可替代的作用。光刻系统的技术原理:掩模对准光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机...
在过去的40年,我们发展成为隔振台的供应商,并在此领域积累了丰富的经验。与此同时,测量技术有了很大的进步,一些灵敏的设备会受被动式隔振台中低频共振频率的干扰,只有主动式隔振台能消除此类干扰。因此,我们在被动式隔振台产品之外,补充了由瑞士TableStableLtd.开发的先进主动式隔振台。隔振台的描述:调整脚,焊接钢框架。1、薄膜空气弹簧BiAi产处于框架和需要隔振的平台之间(垂直固有频率2.3Hz)2、机械气动定位控制(精度土1/lOOmm或土1/lOmm)特点:1、固有振...