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Thetametrisis膜厚仪

简要描述:Thetametrisis膜厚仪FR-Mic是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。

产品目录
详细介绍
品牌其他品牌价格区间面议
产地类别进口应用领域综合

膜厚仪FR-Mic是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台计算机控 制的XY工作台,使其快 速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。品牌属于Thetametrisis。

Thetametrisis利用 FR-Mic,通过紫外/ 可见/ 近红外可轻易对局部区域薄膜厚度,厚度映射,光学常数,反射率,折射率及消光系数进行测量。

【相关应用】

1.高校 & 研究所实验室

2.半导体制造

3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻胶及其他半导体薄膜.)

4.MEMS 器件 (光刻胶, 硅膜等.)

5.LEDs, VCSELs

6.数据存储

7.阳极处理

8.曲面基底的硬镀及软镀

9.聚合物膜层, 粘合剂

10.生物医学(聚对二甲苯, 生 物膜/气泡壁厚度.)

11.还有许多…

Thetametrisis膜厚仪特点】

1、实时光谱测量

2、薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量, 厚度映射

3、使用集成的,USB连接高品质彩色摄像机进行成像

 

 

Thetametrisis膜厚仪产品优势】

1、单击即可分析 (无需初始预测)

2、动态测量

3、包含光学参数 (n & k, color)

4、可保存测量演示视频录像

5、超过 600 种不同材料o 多个离线分析配套装置o 免费操作软件升级

【技术参数】

型号

UV/VIS

UV/NIR-EXT

UV/NIR-HR

DUV/NIR

VIS/NIR

DVIS/NIR

NIR

光谱波长范围(nm)

200–850

200–1020

200-1100

200–1700

370–1020

370–1700

900–1700

光谱仪像素

3648

3648

3648

3648&512

3648

3648&512

512

 

 

 

膜厚测量范围

5X-VIS/NIR

15nm–60μm

15nm–70μm

15nm–90μm

15nm–150μm

15nm–90μm

15nm–150μm

100nm–150μm

10X-VIS/NIR

10X-UV/NIR*

4nm–50μm

4nm–60μm

4nm–80μm

4nm–130μm

15nm–80μm

15nm–130μm

100nm–130μm

15X-UV/NIR*

4nm–40μm

4nm–50μm

4nm–50μm

4nm–120μm

20X-VIS/NIR

20X-UV/NIR*

4nm–25μm

4nm–30μm

4nm–30μm

4nm–50μm

15nm–30μm

15nm–50μm

100nm–50μm

40X-UV/NIR*

4nm–4μm

4nm–4μm

4nm–5μm

4nm–6μm

50X-VIS/NIR

15nm–5μm

15nm–5μm

100nm–5μm

测量n&k蕞小厚度

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

光源

氘灯&卤素灯(internal)

卤素灯(internal)

材料数据库

>600不同材料

*测量面积(收集反射或透射信号的面积)与显微镜物镜和 FR-uProbe 的孔径大小有关。

物镜

光斑尺寸(μm)

 

500μm孔径

250μm孔径

100μm孔径

5x

100μm

50μm

20μm

10x

50μm

25μm

10μm

20x

25μm

17μm

5μm

50x

10μm

5μm

2μm

【工作原理】

 

 

*规格如有更改,恕不另行通知, 测量结果与校准的光谱椭偏仪和 XRD 相比较, 连续 15 天测量的标准方差平均值。样品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度测量的标准方差,样品:1um SiO2 on Si.

*超过 15 天的标准偏差日平均值样品:1um SiO2 on Si。

以上资料来自Thetametrisis,如果有需要更加详细的信息,请联系我们获取。

 

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