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EVG610-单面、双面光刻系统

简要描述:EVG610-单面、双面光刻系统 EVG光刻机EVG®610是一款紧凑型多功能研发系统,可处理零碎片和大200 mm的晶圆。

产品目录
详细介绍
品牌其他品牌产地类别国产
应用领域化工

EVG610-单面、双面光刻系统

是一款紧凑型多功能研发系统,可处理零碎片和大200 mm的晶圆。


一、简介

       EVG光刻机EVG610支持各种标准光刻工艺,如真空,硬,软接触和接近式曝光模式,可选择背部对准方式。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速处理和重新加工,以满足不断变化的用户需求,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户,非常适合大学和研发应用。


EVG610-单面、双面光刻系统

二、EVG光刻机应用

       MEMS,RF器件,功率器件,化合物半导体等方面的图形光刻应用。


三、EVG光刻机特征

      晶圆/基片尺寸从零碎片到200毫米/ 8英寸

      顶部和底部对准功能

      高精度对准

      自动楔形补偿序列

      电动的和程序控制的曝光间隙

      支持新的UV-LED技术

      小化系统占地面积和设施要求

      分步流程指引

      远程技术支持

      多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同语言)

     敏捷的处理和转换重新加工

      台式或独立式带防振花岗岩台面

      附加功能:

         键合对准

         红外对准

         纳米压印光刻(NIL)



四、技术参数


1.掩模版-基板-晶圆尺寸

       掩模版尺寸:5寸/7寸/9寸

       基片/晶圆尺寸:100mm/150mm/200mm

       晶圆厚度:高达10mm


2.对准模式

       顶部对准精度:≤ ± 0,5 µm

       底部对准精度:≤ ± 2,0 µm

       红外对准模式:≤ ± 2,0 µm/取决于基片的材料


3.顶部显微镜

       移动范围1:100mm(X轴:32-100mm;Y轴:-50/+30mm;)

       移动范围2:150mm(X轴:32-150mm;Y轴:-75/+30mm;)

       移动范围1:200mm(X轴:32-200mm;Y轴:-100/+30mm;)

       可选:平坦的物镜可以增加光程;带有环形灯的暗场物镜,可以增加对比度


4.底部显微镜

       移动范围1:100mm(X轴:30-100mm;Y轴:±12mm;)

       移动范围2:150mm(X轴:30-100mm;Y轴:±12mm;)

       移动范围1:200mm(X轴:30-100mm;Y轴:±12mm;)

       可选:平坦的物镜可以增加光程;带有环形灯的暗场物镜,可以增加对比度


5.曝光器件

(1)波长范围:

       NUV:350 - 450 nm

       DUV:低至200 nm (可选)

(2)光源:

       汞灯350W , 500W UV LED灯

(3)均匀性:

       150mm:≤ 3%

       200mm:≤ 4%

(4)滤光片:

       汞灯:机械式

       UV LED:软件可调


6.曝光模式

       接触:硬、软接触,真空

       曝光间隙:1 - 1000 µm

       线宽精度:1µm

       模式:CP(Hg/LED)、CD(Hg/LED)、 CT(Hg/LED) 、CI(LED)

       可选:内部,浸入,扇形


7.可选功能

       键合对准精度:≤ ± 2,0 µm

       纳米压抑光刻(NIL)精度:≤ ± 2,0 µm

       纳米压抑光刻(NIL)软印章分辨率:≤ 50 nm图形分辨率


8.设施

       真空:< 150 mbar

       压缩气体:6 bar

       氮气:可选2或者6 bar

       排气要求:汞灯需要;LED不需要


9.系统方式

       系统:windows

       文件分享和软件备份

       无限程序储存,参数储存在程序内

       支持多语言,含中文

       实时远程支持,诊断和排除故障


10.楔形补偿

       全自动- 软件控制


11.规格

       占地面积:0.55m²

       高度:1.01m

       重量:约250kg


       纳米压印分辨率:≤ 40 nm(取决于模板和工艺)

       支持工艺:Soft UV-NIL 

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