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EVG620 NT-掩模对准光刻机系统

简要描述:EVG620 NT-掩模对准光刻机系统EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在最小化的占位面积,支持高达150毫米晶圆尺寸。

产品目录
详细介绍
品牌其他品牌产地类别国产
应用领域化工

EVG620 NT-掩模对准光刻机系统|接触式光刻机

一、产品特色

EVG620 NT-掩模对准光刻机系统|接触式光刻机提供国家的本领域掩模对准技术在最小化的占位面积,支持高达150毫米晶圆尺寸。

二、技术数据

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称,在最小的占位面积上结合了先进的对准功能和优化的总体拥有成本,提供了先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具,可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案,以满足大批量生产要求和制造标准。拥有操作员友好型软件,最短的掩模和工具更换时间以及高效的球服务和支持,使它成为任何制造环境的理想解决方案。

EVG620 NT或完全容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的振动隔离功能,可在各种应用中实现出色的曝光效果,例如,对薄而厚的光刻胶进行曝光,对深腔进行构图并形成可比的形貌,以及对薄而易碎的材料(例如化合物半导体)进行加工。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

三、光刻机特征

1、晶圆/基板尺寸从小到150 mm / 6''

2、系统设计支持光刻工艺的多功能性

3、易碎,薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理,更换时间短

4、带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列

5、自动原点功能,用于对准键的确居中

6、具有实时偏移校正功能的动态对准功能

7、支持新的UV-LED技术

8、返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统

9、自动化系统上的手动基板装载功能

10、可以从半自动版本升级到全自动版本

11、最小化系统占地面积和设施要求

12、多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

13、先进的软件功能以及研发与全面生产之间的兼容性

14、便捷处理和转换重组

15、远程技术支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

1.键对准

2.红外对准

3.纳米压印光刻(NIL)

五、EVG620 NT技术数据

曝1、光源:

汞光源/紫外线LED光源

2、先进的对准功能:

手动对准/原位对准验证

3、自动对准:

动态对准/自动边缘对准

对准偏移校正算法

4、EVG620 NT产能:

全自动:一批生产量:每小时180片

全自动:吞吐量对准:每小时140片晶圆

晶圆直径(基板尺寸):高达150毫米

5、对准方式:

上侧对准:≤±0.5 µm

底侧对准:≤±1,0 µm

红外校准:≤±2,0 µm /具体取决于基材

键对准:≤±2,0 µm

NIL对准:≤±3.0 µm

6、曝光设定:

真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式

7、楔形补偿:

全自动软件控制

8、曝光选项:

间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光

六、系统控制

1、操作系统:

Windows

文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数

2、多语言用户GUI和支持:

CN,DE,FR,IT,JP,KR

实时远程访问,诊断和故障排除

3、工业自动化功能:

盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,弯曲,翘曲,边缘晶圆处理

纳米压印光刻技术:SmartNIL  

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