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一、产品特色
EVG620 NT-掩模对准光刻机系统|接触式光刻机提供国家的本领域掩模对准技术在小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。
二、结构功能
EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在小的占位面积上结合了先进的对准功能和优化的总体拥有成本，提供了先进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全覆盖Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。拥有操作员友好型软件，短的掩模和工具更换时间以及高效的球服务和支持，使它成为任何制造环境的理想解决方案。
EVG620 NT或*容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的振动隔离功能，可在各种应用中实现出色的曝光效果，例如，对薄而厚的光刻胶进行曝光，对深腔进行构图并形成可比的形貌，以及对薄而易碎的材料（例如化合物半导体）进行加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
三、EVG620 NT-接触式光刻机特征
| 晶圆/基板尺寸从小到150 mm / 6'' | 系统设计支持光刻工艺的多功能性 |
| 易碎，薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理，更换时间短 | 带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列 |
| 自动原点功能，用于对准键的确居中 | 具有实时偏移校正功能的动态对准功能 |
| 支持新的UV-LED技术 | 返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统 |
| 自动化系统上的手动基板装载功能 | 可以从半自动版本升级到全自动版本 |
| 小化系统占地面积和设施要求 | 多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） |
| 先进的软件功能以及研发与全面生产之间的兼容性 | 便捷处理和转换重组 |
| 远程技术支持和SECS / GEM兼容性 |
四、附加功能
1.键对准
2.红外对准
3.纳米压印光刻（NIL）
五、EVG620 NT技术数据
| 曝光源 | 汞光源/紫外线LED光源 |
| 先进的对准功能 | 手动对准/原位对准验证 |
| 自动对准 | 动态对准/自动边缘对准 对准偏移校正算法 |
| EVG620 NT产能 | 全自动：一批生产量：每小时180片 全自动：吞吐量对准：每小时140片晶圆 晶圆直径（基板尺寸）：高达150毫米 |
| 对准方式 | 上侧对准：≤±0.5 µm 底侧对准：≤±1,0 µm 红外校准：≤±2,0 µm /具体取决于基材 键对准：≤±2,0 µm NIL对准：≤±3.0 µm |
| 曝光设定 | 真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式 |
| 楔形补偿 | 全自动软件控制 |
| 曝光选项 | 间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光 |
六、系统控制
| 操作系统 | Windows 文件共享和备份解决方案/无限制 程序和参数 |
| 多语言用户GUI和支持 | CN，DE，FR，IT，JP，KR 实时远程访问，诊断和故障排除 |
| 工业自动化功能 | 盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理 |
| 纳米压印光刻技术 | SmartNIL |
七、机器外形展示
八、案例展示
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