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  • EVG101接近式光刻机

    EVG101接近式光刻机基本功能:研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。基本功能:研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。

    更新时间:2022-02-18
    型号:EVG101
    厂商性质:代理商
    浏览量:2016
  • EVG620 NT-掩模对准光刻机系统

    EVG620 NT-掩模对准光刻机系统EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在小化的占位面积,支持高达150毫米晶圆尺寸。

    更新时间:2020-10-28
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:884
  • EVG610-单面、双面光刻系统

    EVG610-单面、双面光刻系统 EVG光刻机EVG®610是一款紧凑型多功能研发系统,可处理零碎片和大200 mm的晶圆。

    更新时间:2022-01-20
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:247
  • EVG6200 NT掩模对准光刻系统

    EVG6200 NT掩模对准光刻系统 特色:EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

    更新时间:2022-01-20
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:293
  • IQ Aligner 自动掩模对准系统

    IQ Aligner 自动掩模对准系统 用于自动非接触近距离掩模对准光刻,进行了处理和优化,用于晶圆片的尺寸高达200毫米。

    更新时间:2020-10-28
    型号:
    厂商性质:代理商
    浏览量:214
  • EVG101光刻胶测量

    研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。$nEVG101光刻胶测量在单室设计上可以满足研发工作,与EVG的自动化系统完全兼容。EVG101支持大300 mm的晶圆,可配置为旋涂或喷涂和显影。

    更新时间:2022-06-09
    型号:EVG101
    厂商性质:代理商
    浏览量:551
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