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  • EVG610EVG单面/双面掩模对准光刻机

    EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610(单面/双面掩模对准光刻机 微流控 纳米压印)支持各种标准光刻工艺,如真空,硬,软接触和接近式曝光模式,可选择背部对准方式。此外,该系统还提供其他功能,包括键合对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速处理和重新加工,以满足不断变化的用户需求,转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念适合初学者到专家级各个阶层用户,非常适合大学和研发应用。

    更新时间:2024-03-19
    型号:EVG610
    厂商性质:代理商
    浏览量:6053
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