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Thetametrisis自动化光学膜厚仪

简要描述:Thetametrisis自动化光学膜厚仪 FR-Scanner自动化超高速薄膜厚度测量仪是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快 速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。

产品目录
详细介绍
品牌其他品牌价格区间面议
产地类别进口应用领域医疗卫生,化工,生物产业,电子,综合

Thetametrisis自动化光学膜厚仪 FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快 速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。

应用:

1、半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si, Si, DLC, )

2、光伏产业

3、液晶显示

4、光学薄膜

5、聚合物

6、微机电系统和微光机电系统

7、基底:透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明

Thetametrisis膜厚仪独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。

Thetametrisis膜厚仪 FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。

测量 8” 样片 625 点数据 < 60 秒

Thetametrisis自动化光学膜厚仪特征:

1、单点分析(不需要预估值)

2、动态测量

3、包括光学参数(n和k,颜色) o 为演示保存视频

4、600 多种的预存材料

5、离线分析

6、免费软件更新

FR-Scanner自动化超高速薄膜厚度测量仪性能参数:

样品尺寸

晶圆: 2 英寸-3 英寸-4 英寸-6 英寸-8 英寸-300mm1

角度与线性分辨率

5μm/0.1o

光斑

350μm

光谱范围

370-1020nm

光谱规格

3648pixels/16bit

光源MTBF

10000h

厚度范围 2

12nm-90μm

精度 3

0.02nm

稳定性 4

0.05nm

准确度 5

1nm

折射率测量蕞小厚度 6

100nm

扫描速度 7

625meas/min

通讯接口

USB 2.0 / USB 3.0.

产品尺寸(mm)

485W x 457L x 500H

电源要求

110V/230V, 50-60Hz, 300W

外观

防静电喷涂钢板和 304 不锈钢面板

重量

40Kg

测量原理:

白光反射光谱(WLRS)是测量从单层薄膜或多层堆叠结构的一个波长范围内光的反射量,入射光垂直于样品表面,由于界面干涉产生的反射光谱被用来计算确定(透明或部分透明或完全反射基板上)的薄膜的厚度、光学常数(n和k)等。

1、样片平台可容纳任意形状的样品。450mm平台也可根据要求提供。真正的X-Y扫描也可能通过定制配置。

2、硅基板上的单层SiO2薄膜的厚度值。对于其他薄膜/基质,这些值可能略有不同。

3、15天平均值的标准差平均值。样品:硅晶片上1微米的二氧化硅

4、2*超过15天的日平均值的标准偏差。样品:硅晶片上1微米的二氧化硅

5、测量结果与校准的光谱椭偏仪比较

6、根据材料

7、测量以8 "晶圆为基准。如有特殊要求,扫描速度可超过1000measurement /min

如果您想要了解更多关于Thetametrisis膜厚仪的产品信息,请联系我们岱美仪器。

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