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当前位置:首页  >  产品中心  >  Thetametrisis膜厚仪  >  硅片厚度测量仪  >  FR-Scanner AIO-Mic-RΘ150自动化高速薄膜厚度测量仪

自动化高速薄膜厚度测量仪

简要描述:显示器薄膜测量仪*的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。

  • 产品型号:FR-Scanner AIO-Mic-RΘ150
  • 厂商性质:代理商
  • 产品资料:
  • 更新时间:2022-12-28
  • 访  问  量: 49

详细介绍

1、FR-Scanner-AIO-Mic-RΘ150介绍 

模块化厚度测绘系统平台,集成了光学、电子和机械模块,用于表征图案化薄膜光学参数。典型案例包括(但不限于)微图案表面、粗糙表面等。晶圆放置在真空吸盘上,该真空吸盘支持尺寸/直径达 300 毫米的各种晶圆,执行测量光斑尺寸小至几微米的强大光学模块。具超高精度和可重复性的电动RΘ 载物台,在速度、精度和可重复性方面具有出色的性能。


FR-Scanner-AIO-Mic-RΘ150提供:o 实时光谱反射率测量 o 薄膜厚度、光学特性、不均匀性测量、厚度测绘o 使用集成的、USB 连接的高质量彩色相机进行成像o 测量参数的统计数据 * 还提供用于测量更大直径晶圆上涂层的工具(最大 450 毫米)


2、特征


o 单击分析无需初始猜测

o 动态测量

光学参数(n & k、色座標)

o Click2Move 和图案測量位置对齐功能

o 多个离线分析安装

o 免费软件更新


3、规格

Model

UV/VIS

UV/NIR -EX

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D VIS/NIR

NIR

NIR-N2

Spectral Range (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

900 - 1050

Spectrometer Pixels

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

3648

Thickness range (SiO2) *1

5X- VIS/NIR

4nm – 60μm

4nm – 70μm

4nm – 100μm

4nm – 150μm

15nm – 90μm

15nm–150μm

100nm-150μm

4um – 1mm

10X-VIS/NIR

10X-UV/NIR*

4nm – 50μm

4nm – 60μm

4nm – 80μm

4nm – 130μm

15nm – 80μm

15nm–130μm

100nm–130μm

15X- UV/NIR *

4nm – 40μm

4nm – 50μm

4nm – 50μm

4nm – 120μm

100nm-100μm

20X- VIS/NIR

20X- UV/NIR *

4nm – 25μm

4nm – 30μm

4nm – 30μm

4nm – 50μm

15nm – 30μm

15nm – 50μm

100nm – 50μm

40X- UV/NIR *

4nm – 4μm

4nm – 4μm

4nm – 5μm

4nm – 6μm

50X- VIS/NIR

15nm – 5μm

15nm – 5μm

100nm – 5μm

Min. Thickness for n & k

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

Thickness Accuracy **2

0.1% or 1nm

0.2% or 2nm

3nm or 0.3%


Thickness Precision **3/4

0.02nm

0.02nm

<1nm

5nm

Thickness stability **5

0.05nm

0.05nm

<1nm

5nm

Light Source

Deuterium & Halogen

Halogen (internal), 3000h   (MTBF)

R/Angle resolution

5μm/0.1o

Material Database

> 700 different   materials

Wafer size

2in-3in-4in-6in-8in-300mm

Scanning   Speed

100meas/min   (8’’ wafer size)

Tool   footprint / Weight

650x500mm   / 45Kg

Power

110V/230V, 50-60Hz, 350W





测量区域光斑(收集反射信号的区域)与物镜和孔径大小有关

物镜

Spot Size (光斑)

放大倍率

500微米孔径

250微米孔径

100微米孔径

5x

100 μm

50 μm

20 μm

10x

50 μm

25 μm

10 μm

20x

25 μm

15 μm

5 μm

50x

10 μm

5 μm

2 μm





4、工作原理

Principle of Operation 测量原理White Light Reflectance Spectroscopy (WLRS) 白光反射光谱是测量从单层薄膜或多层薄膜堆叠结构的一个波长范围内的反射量,入射光垂直于样品表面,由于界面干涉产生的反射光谱被用来计算确定(透明或部分透明或wan'quan反射基板上)薄膜的厚度、光学常数(N&K)等。



图片4.png


*1规格如有变更,恕不另行通知,*2与校正过的光谱椭偏仪和x射线衍射仪的测量结果匹配,*3超过15天平均值的标准偏差平均值,样品:硅晶片上1微米SiO2,*4标准偏差100次厚度测量结果,样品:硅晶片上1微米SiO2, *5 15天内每日平均值的2*标准差。样品:硅片上1微米SiO2。



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